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1200℃小型開啟式真空管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結構，設計合理，外形美觀，結構緊湊；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

型號：SK2-2-12QA

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小型開啟式管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發(fā)生化學反應生成介質膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。